選擇產(chǎn)品分類
工業(yè)設(shè)備
高速乳化機(jī)
高速均質(zhì)機(jī)
研磨分散機(jī)
高速膠體磨
高速分散機(jī)
研磨機(jī)
濕磨機(jī)
濕法粉碎機(jī)
粉液混合機(jī)
攪拌機(jī)
真空乳化機(jī)
實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
研發(fā)設(shè)備
實(shí)驗(yàn)室中試設(shè)備
膠體磨CM2000
三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款膠體磨比普通的膠體磨的速度達(dá)到到4-5倍以上,研磨效果好,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到到14000RPM,可以達(dá)到到更好的分散濕磨效果。
膠體磨CMO2000
依肯獨(dú)特的創(chuàng)新,MO2000系列錐體磨(膠體磨),它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新,CMO2000系列錐體磨(膠體磨)能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小,錐體磨(膠體磨)的研磨間隙可以無級(jí)調(diào)節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
膠體磨CMD2000
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求
膠體磨CMSD2000
CMSD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,形成的摩擦力比較劇烈,就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
膠體磨CMXD2000
圓椎形定轉(zhuǎn)子,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
分散機(jī)CM2000
特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn),擁有可調(diào)節(jié)的定轉(zhuǎn)子間隙,可滿足不同行業(yè)多種需求。
分散機(jī)CMO2000
CMO2000實(shí)在CM2000基礎(chǔ)上的進(jìn)一步優(yōu)化產(chǎn)品,有著更新的技術(shù)創(chuàng)新。錐形刀具間隙可調(diào)節(jié)至最小,來減小顆粒粒徑,從而可獲更細(xì)的懸浮液。
分散機(jī)CMD2000
是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,第一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
分散機(jī)CMSD2000
CMSD的線速度很高,剪切間隙非常小,凹槽在每級(jí)都可以改變方向,同時(shí),高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料可滿足不同行業(yè)的多種要求